Gaya APA
Ubaeni, Esti Nur. (2016).
Optimasi waktu fotopolimerisasi insitu senyawa kolesteril akrilat pada rentang suhu 60-70 derajat Celcius dengan metode uv curing .
Jakarta:
Prodi Kimia FMIPA UNJ.
Gaya Chicago
Ubaeni, Esti Nur.
Optimasi waktu fotopolimerisasi insitu senyawa kolesteril akrilat pada rentang suhu 60-70 derajat Celcius dengan metode uv curing.
Jakarta:
Prodi Kimia FMIPA UNJ,
2016.
Text.
Gaya MLA
Ubaeni, Esti Nur.
Optimasi waktu fotopolimerisasi insitu senyawa kolesteril akrilat pada rentang suhu 60-70 derajat Celcius dengan metode uv curing.
Jakarta:
Prodi Kimia FMIPA UNJ,
2016.
Text.
Gaya Turabian
Ubaeni, Esti Nur.
Optimasi waktu fotopolimerisasi insitu senyawa kolesteril akrilat pada rentang suhu 60-70 derajat Celcius dengan metode uv curing.
Jakarta:
Prodi Kimia FMIPA UNJ,
2016.
Print.