Text
Optimasi waktu fotopolimerisasi insitu senyawa kolesteril akrilat pada rentang suhu 60-70 derajat Celcius dengan metode uv curing
ABSTRAK
ESTI NUR UBAENI. Optimasi Waktu Fotopolimerisasi Insitu Senyawa Kolesteril Akrilat Pada Rentang Suhu 60-700C Dengan Metode UV Curing. Skripsi. Jakarta: Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam Universitas Negeri Jakarta. 2016.
Kolesteril akrilat merupakan salah satu jenis kristal cair. Optimasi waktu fotopolimerisasi insitu senyawa kolesteril akrilat bertujuan agar polimer kolesteril akrilat yang terbentuk berada pada fasa nematik kiral sehingga struktur dapat stabil pada suhu yang ditentukan. Fotopolimerisasi dengan radiasi sinar UV diselidiki pada variasi waktu menit ke-15, 30, 60, dan 90 dengan rentang suhu yang sama yaitu 60-700C. Hasil karakterisasi menunjukkan optimasi fotopolimerisasi berjalan dengan baik pada menit ke-30. Berdasarkan data XRD, polimer menit ke-30 memiliki bidang kristal yaitu (100), (001), (211), dan (011) yang mendekati untuk memiliki fasa nematik. Data SEM-EDX memperlihatkan bahwa sampel telah membentuk jaringan polimer (crosslink) dan mengandung 86,11% unsur karbon (C) dan 13,77% unsur oksigen (O). Keberhasilan polimerisasi kolesteril akrilat pada menit ke-30 ini ditunjukkan berdasarkan data FTIR bahwa terdapat dua buah puncak yang sangat tajam dan kuat pada bilangan gelombang 2949,29-2851,88 cm-1 yang menyatakan keberadaan gugus fungsi C-H alifatik dan tidak munculnya bilangan gelombang pada daerah serapan 1636-1637,52 cm-1. Selain itu data GPC menunjukkan bahwa polimer kolesteril akrilat memiliki berat molekul rata-rata berat (Mw) sebesar 3169,67 g/mol dan berat molekul rata-rata jumlah (Mn) sebesar 2853,67 g/mol.
Kata kunci: kristal cair, kolesteril akrilat, nematik kiral, fotopolimerisasi insitu, UV curing
BibliografI lembar 64-68
SS00008641 | SK 8641 | UPT Perpustakaan UNJ (CD.03.2016.002) | Tersedia |
Tidak tersedia versi lain