Text
Pengaruh temperatur terhadap pembentukan lapisan komposit Ni-TiN/Si3N4 dengan menggunakan metode elektrodeposisi
ABSTRAK
LELI KUSUMAWATI. Pengaruh Temperatur Terhadap Pembentukan Lapisan
Komposit Ni-TiN/Si3N4 dengan Menggunakan Metode Elektrodeposisi. Skripsi.
Jakarta: Program Studi Fisika, Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam,
Universitas Negeri Jakarta, 2019.
Pembentukan lapisan komposit Ni-TiN/Si3N4 telah dilakukan untuk mengkaji
pengaruh temperatur terhadap morfologi permukaan, struktur kristal dan tingkat
kekerasan lapisan komposit Ni-TiN/Si3N4 yang telah terbentuk. Proses pelapisan
dilakukan menggunakan metode elektrodeposisi selama 15 menit dengan arus
listrik sebesar 5 mA. Larutan elektrolit yang digunakan terdiri dari NiCl2.6H2O
0,17 M, NiSO4.6H2O 0,38 M, TiN 6 g/L, Si3N4 0,6 g/L, H3BO3 40 g/L, Sodium
Dodecyl Sulfate (SDS) 0,6 g/L. Variasi temperatur yang digunakan yaitu 35°C,
40°C dan 45°C. Elektroda yang digunakan yaitu Pt sebagai elektroda pendukung,
AgCl sebagai elektroda pembanding dan Tungsten Karbida (WC) sebagai
elektroda kerja. Berdasarkan hasil karakterisasi menggunakan Scanning Electron
Microscopy (SEM) dan Energy Dispersive Spectroscopy (EDS), morfologi
permukaan lapisan semakin kompak seiring meningkatnya temperatur dengan
penurunan komposisi lapisan komposit Ni-TiN/Si3N4. Berdasarkan hasil
karakterisasi X-Ray Diffraction (XRD) dan uji kekerasan Vickers terjadi
penurunan ukuran kristal Ni serta peningkatan nilai kekerasan lapisan seiring
dengan meningkatnya temperatur.
Kata kunci : Lapisan komposit Ni-TiN/Si3N4, elektrodeposisi, temperatur
Bibliografi : lembar 44-49
SS00022177 | SK 22177 | UPT Perpustakaan UNJ (CD.03.2019.005) | Tersedia |
Tidak tersedia versi lain