Text
Pengaruh konsentrasi prekursor TiN dan AIN pada lapisan tipis Ni-TiAIN menggunakan teknik elektrodeposisi
ABSTRAK
Bagus Ksatriotomo. Pengaruh Konsentrasi Prekursor TiN dan AlN Pada Lapisan Tipis
Ni-TiAlN Menggunakan Teknik Elektrodeposisi. Skripsi. Jakarta, Jurusan Fisika Fakultas
Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam. Universitas Negeri Jakarta 2015
Titanium aluminium nitrid (TiAlN) merupakan paduan pelapis keras metastabil yang terdiri
dari unsur-unsur logam titanium aluminium dan nitrogen untuk meningkatkan sifat kekerasan,
ketahanan aus, dan korosi permukaan substrat material. Alasan mendasar mengapa pelapis TiAlN
mengungguli pelapis lain yaitu TiAlN merupakan salah satu jenis coating yang digunakan untuk
meningkatkan ketahanan aus substrat tungsten karbida (WC). Tujuan dari penelitian ini yaitu
untuk mengetahui pengaruh konsentrasi larutan pada proses pelapisan. Bahan-bahan yang
digugnakan 0,17 mol/L NiCl26H2O; 0,38 mol/L NiSO46H2O; 0,49 mol/L H3BO3, TiN dan AlN
yang akan divariasikan. Untuk pengujian karakteristik dalam penelitian ini dilakukan melalui uji
SEM dan XRD untuk melihat morfologi dan struktur kristal NiTiAlN. Hasil penelitian
menunjukan bahwa konsentrasi yang divariasikan berpengaruh terhadap pembentukan lapisan
pada substrat, semakin banyak konsentrasi yang digunakan maka akan semakin terlapisi substrat
WC. Pada konsentrasi 6 gr/l substrat lebih baik daripada variasi konsentrasi lain karena hasil SEM
menunjukan permukaan substrat lebih halus.
Bibliografi : lembar 49-51
SS00007037 | SK 7037 | UPT Perpustakaan UNJ (CD.03.2015.001) | Tersedia |
Tidak tersedia versi lain