Gaya APA

Ubaeni, E, N. (2016). Optimasi waktu fotopolimerisasi insitu senyawa kolesteril akrilat pada rentang suhu 60-70 derajat Celcius dengan metode uv curing . Jakarta: Prodi Kimia FMIPA UNJ.

Gaya MLA

Ubaeni, Esti, Nur. "Optimasi waktu fotopolimerisasi insitu senyawa kolesteril akrilat pada rentang suhu 60-70 derajat Celcius dengan metode uv curing". Jakarta: Prodi Kimia FMIPA UNJ, 2016. Text.