No image available for this title

Text

Pembentukan lapisan komposit Ni-Tin-AIN/Si3N4 menggunakan metode elektrodeposisi dengan variasi temperatur

ABSTRAK
ASSITA WAHYU ANDIANI. Pembentukan Lapisan Komposit Ni-TiN-AlN/Si3N4 Menggunakan Metode Elektrodeposisi dengan Variasi Temperatur. Dibawah bimbingan ESMAR BUDI, IWAN SUGIHARTONO
Telah dilakukan penelitian pembentukan lapisan komposit Ni-TiN-AlN/Si3N4 untuk mengkaji pengaruh temperatur terhadap morfologi lapisan. Proses pelapisan menggunakan metode elektrodeposisi dengan arus sebesar 5 mA selama 15 menit. Lapisan komposit ini terbentuk pada substrat tungsten karbida dengan komposisi larutan elektrolit yang terdiri dari 6 g/L AlN, 6 g/L TiN, 40 g/L H3BO3, 0.6 g/L Si3N4, 0.17 M NiCl2.6H2O, 0.38 M NiSO4.6H2O dan 0,6 g/L Sodium Dodecyl Sulfate. Variasi temperatur yang digunakan 35°C, 40°C dan 45°C. Penelitian ini menggunakan Karakterisasi Scanning Electron Microscopy (SEM) yang menunjukan bahwa semakin besar variasi temperatur maka morfologi permukaan lapisan komposit Ni-TiN-AlN/Si3N4 yang terbentuk semakin halus dan lebih berpori, Energy Dispersisive Spectroscopy (EDS) menunjukan bahwa semakin meningkatnya suhu maka semakin meningkatnya komposisi massa dan atomik unsur. Berdasarkan hasil karakterisasi X-Ray Diffraction (XRD) semakin kecil ukuran kristal seiring meningkatnya temperatur dan uji keras Vickers kekerasan tertinggi terdapat pada temperatur 45C.
Katakunci: Elektrodeposisi, lapisan komposit Ni-TiN-AlN/Si3N4, temperatur
Bibliografi : lembar 40-46

Ketersediaan
SS00022180SK 22180UPT Perpustakaan UNJ (CD.03.2019.008)Tersedia
Informasi Detail
Judul Seri
-
No. Panggil
SK 22180
Penerbit
Jakarta : Program Studi Fisika FMIPA UNJ.,
Deskripsi Fisik
xiii, 75 lembar : il. ; 30 cm.
Bahasa
Indonesia
ISBN/ISSN
-
Klasifikasi
NONE
Tipe Isi
-
Tipe Media
-
Tipe Pembawa
-
Edisi
-
Subjek
Fisika : Kimia Fisik
Info Detail Spesifik
-
Pernyataan Tanggungjawab
Versi lain/terkait

Tidak tersedia versi lain

Lampiran Berkas
Komentar
Anda harus login sebelum memberikan komentar